生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机

生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机（PVD-1000B系列）该设备采用磁控溅射、离子辅助、反应溅射的工艺方法，在工件表面制备各种薄膜材料。该设备是集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。

可以制备单层膜、多层膜、掺杂膜、金属膜及合金膜、化合物薄膜等。

设备结构及性能参数

真空室为圆柱形、上开盖、前开门结构；使用材料均为奥氏体不锈钢304/321，表面电化学抛光处理，无微观毛刺，不会藏污纳垢。

磁控溅射靶为矩形，沿真空室壁的圆周排列，可调整靶面与工件的距离。

样品架为圆筒形，样品装载数量大；旋转运动为齿轮驱动式，动力直连输入，经齿轮驱动样品台转盘旋转，运行平稳，无抖动；密封可靠，故障率低。

加热系统采用红外加热器，对真空环境无污染，加热均匀；采用具有PID功能的智能温控仪控制加热功率。

电气控制及操作系统工作稳定可靠，操作界面清晰大方，便于操作。

系统安全保护设置齐全，设备启动后可实行无人运行。

设备重点性能参数

极限真空度：8X10^-5Pa

工作背景真空度：8X10^-4Pa

工作背景真空到达时间：＜40min（空气湿度低于45％；开门时间＜30min条件下从大气抽到工作真空度时间)

样品加热温度：室温~300℃

样品架公转速度：3~10r/min连续可调

片内膜层均匀性：＜5%

片间膜层均匀性：＜5%

磁控靶数量：3靶（可根据用户工艺扩展靶位）

真空清洗离子靶：1靶