鹏城半导体 生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机

生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机（PVD-1000B系列）该设备采用磁控溅射、离子辅助、反应溅射的工艺方法，在工件表面制备各种薄膜材料。该设备是集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。

可以制备单层膜、多层膜、掺杂膜、金属膜及合金膜、化合物薄膜等。

设备结构及性能参数

真空室为圆柱形、上开盖、前开门结构；使用材料均为奥氏体不锈钢304/321，表面电化学抛光处理，无微观毛刺，不会藏污纳垢。

磁控溅射靶为矩形，沿真空室壁的圆周排列，可调整靶面与工件的距离。

样品架为圆筒形，样品装载数量大；旋转运动为齿轮驱动式，动力直连输入，经齿轮驱动样品台转盘旋转，运行平稳，无抖动；密封可靠，故障率低。

加热系统采用红外加热器，对真空环境无污染，加热均匀；采用具有PID功能的智能温控仪控制加热功率。

电气控制及操作系统工作稳定可靠，操作界面清晰大方，便于操作。

系统安全保护设置齐全，设备启动后可实行无人运行。

设备重点性能参数

公司简介：

鹏城半导体技术(深圳)有限公司，由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。
公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。
公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。
公司依托于哈尔滨工业大学(深圳)，具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。