鹏城半导体技术（深圳）有限公司

真空镀膜,分子束外延,磁控溅射仪,热丝CVD金刚石设备,物理气相...

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	鹏城半导体热丝CVD金刚石制备设备 PC-005 鹏城半导体研发设计制造了热丝CVD金刚石设备，分为实验型设备和生产型设备两类。可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器	2023-11-01
	鹏城半导体 PECVD设备 PC-006 产品简介PECVD设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉	2023-11-01
	鹏城半导体 MOCVD设备 PC-008 材料的输运采取了超纯的气路系统，源的切换和输入采用了多路组合阀进气技术。由于组合阀具有极小的死空间，使得源的残留量非常少	2023-11-01
	鹏城半导体 LPCVD设备 PC-007 小型管式LPCVD设备简介LPECVD是在低压高温的条件下，通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及	2023-11-01
	供应鹏城半导体热丝CVD金刚石设备非标定制热丝法化学气相沉积CVD金刚石（热丝CVD金刚石设备）设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级	2023-10-31
	供应鹏城半导体 PECVD设备非标定制 1、该设备是高真空单频或双频等离子增强化学气相沉积PECVD薄膜设备，主要用于制备氮化硅和氧化硅薄膜。3、配置尾气处理装置。设	2023-10-31
	供应鹏城半导体 LPCVD设备非标定制 LPCVD是在低压高温的条件下，通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科	2023-10-31
	供应鹏城半导体热丝法化学气相沉积CVD金刚石单双面镀膜鹏城半导体研发设计制造了热丝CVD金刚石设备，分为实验型设备和生产型设备两类。可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器	2023-10-31