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生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机（PVD-1000S系列）该设备广泛应用于铣刀、钻头、轴承、齿轮、镜片等表面的硬质耐磨涂层制备，集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。
可以制备单层膜、多层膜、掺杂膜、金属膜及合金膜、化合物薄膜等。
设备结构及性能参数
设备由PVD镀膜室、集成封闭机柜、分子泵+旋片泵真空机组、真空测量系统、工艺气路系统、磁控溅射靶、直线型离子源、工件架、靶挡板、工件旋转机构、脉冲直流电源、高能量脉冲电源、中频电源、射频电源、偏压电源、离子辅助镀膜电源及控制系统、检测及报警保护系统、水冷管路系统、循环制冷恒温水箱、计算机+PLC 两级控制系统组成。
- 整机外形尺寸：2500mm X 2500mm X 2000mm。也可根据用户产能规模定制尺寸。
- 磁控溅射靶为矩形，靶面尺寸80mm X 300mm，沿真空室壁的圆周排列，可以随时在线调整靶面与样片的距离，靶头伸缩距离150mm。
- 也可根据用户工件尺寸，配置不同的靶材尺寸。
- 直线型离子源沿真空室壁的圆周排列，数量两组，工作气压0.1-0.3Pa，能量200-5000eV可调，束流强度0.2-1A。
- 工件架为圆筒形结构，工件沿圆周排列，每个工位工件既自转又公转。样品装载数量大；旋转运动运行平稳，无抖动；密封可靠。
- 工件可加偏压。
- 加热系统采用红外加热器，对真空环境无污染，加热均匀；具有PID功能的智能温控仪控制加热功率。工件最高可加热至500摄氏度。
设备重点性能参数
极限真空度：7×10^-5Pa
工作背景真空度：8×10^-4Pa
工作背景真空到达时间：＜30min（空气湿度低于45％；开门时间＜30min条件下从大气抽到工作真空度时间）
保压：关机12小时保压＜10Pa
溅射室外形尺寸：直径875mm×高度1000mm
整机尺寸：长2500mm×宽2500mm×高2000mm
样品加热温度：室温~500℃
样品架公转速度：0；3~12r/min连续可调
片内膜层均匀性：＜5%
片间膜层均匀性：＜5%
磁控靶数量：4靶（可根据用户工艺扩展靶位）
直线型离子源：2靶
磁控靶规格：80mm×300mm。可根据用户工件尺寸，配置对应的靶规格。
靶材规格：80mm×100mm×8mm。可根据用户工件尺寸，配置对应的靶材规格。