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PVD镀膜设备,分子束外延,磁控溅射仪,TGV/TSV,金刚石涂层装备,...

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有机涂覆设备 HITSemi-CVDP-X
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产品: 有机涂覆设备 HITSemi-CVDP-X 
品牌: 面议
粉材装载量: 1000g(可定制)
冷阱: 工作温度:≤-110℃
蒸发炉: 蒸发温度:80℃~220℃
有效期至: 长期有效
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详细信息

有机涂覆设备是派瑞林粉材经过汽化(150°C)与裂解(650°C)成为活泼单体,进入涂装室中,在室温下以气相沉积的方式,均匀渗入与涂敷在涂装物的内部隙缝与表面,然后聚合成为派瑞林高分子材料。


主要特点
具有良好的温度均匀性。
金属基材镀膜具有卓越的附着力。

技术参数


产品型号:HITSemi-CVDP-X

粉材装载量:1000g(可定制)

蒸发炉:蒸发温度:80~220

温度均匀性:±2%

裂解炉:裂解温度:550~800

温度均匀性:±1%

偶联剂蒸发装置:80~200

冷阱:工作温度:-110

控制形式:半自动/全自动

控制系统:PLC+触摸屏


设备工作条件

供电:三相五线制,AC 380V50Hz

功率:22KW

气动部件供气压力:0.5MPa0.7MPa

质量流量控制器供气压力:0.05MPa0.2MPa

工作环境温度:10℃~40

工作环境湿度:50%

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