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- 水平真空管式炉 HITSemi-VTF-260
- 2026-06-24 09:16
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- 2026-06-24 09:16
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- 小型等离子清洗机（电容式）HITSemi-Plasma-C1
- 2026-06-24 09:16
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- 电感、电容复合三维等离子体清洗机
- 2026-06-24 09:16
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- 小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备
- 2026-06-24 09:16
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- 小型PECVD等离子体增强化学气相沉积设备
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- LPCVD设备 HITSemi-LPCVD-200
- 2026-06-24 09:16
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- 小型单管LPCVD 低压化学气相沉积设备
- 2026-06-24 09:16
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- 高真空电阻热蒸发镀膜一体设备
- 2026-06-24 09:16
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- 高真空电子束蒸发镀膜设备 HITSemi-PVD-600EB
- 2026-06-24 09:16
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- 高真空磁控溅射镀膜设备（矩形靶）
- 2026-06-24 09:16
- 高真空磁控溅射镀膜设备主要是用矩形磁控溅射靶进行溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反
- 高真空磁控溅射镀膜设备（圆形平面靶，柜式一体机）
- 2026-06-24 09:16
- 高真空磁控溅射镀膜设备主要是用圆形磁控溅射靶进行溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反
- 超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备
- 2026-06-24 09:16
- 超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备，是在超洁净环境下，采用纳米及原子级制造技术，生长高纯度高质量薄膜。应用场景之一：GaN单
- 有机涂覆设备 HITSemi-CVDP-X
- 2026-05-12 09:00
- 主要特点具有良好的温度均匀性。金属基材镀膜具有卓越的附着力。 技术参数 供电：三相五线制，AC 380V，50Hz 功率：22KW 气动部
- 鹏城半导体 热丝CVD金刚石制备设备 PC-005
- 2026-04-16 11:27
- 鹏城半导体研发设计制造了热丝CVD金刚石设备，分为实验型设备和生产型设备两类。可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器