- 鹏城微纳 LPCVD 低压化学气相沉积设备
- 2026-01-30 11:28
- 设备结构及特点1、小型化，方便实验室操作和使用，大幅降低实验成本两种基片尺寸2英寸或4英寸；每次装片1～3片。基片放置方式：
- 鹏城微纳 PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备
- 2026-01-30 11:28
- 设备用途和功能特点1、该设备是高真空单频或双频等离子增强化学气相沉积PECVD薄膜设备，主要用于制备氮化硅和氧化硅薄膜。2、设
- 鹏城微纳 HFCVD 热丝化学气相沉积设备
- 2026-01-30 11:28
- 金刚石薄膜生产线 热丝CVD金刚石设备
- 鹏城微纳 分子束外延薄膜生长设备（MBE）
- 2026-01-30 11:28
- 分子束外延薄膜生长设备（MBE）（分子束外延MBE）该设备可以在某些衬底上实现外延生长工艺，实现分子自组装、超晶格、量子阱、一
- 鹏城微纳 高真空电阻热蒸发镀膜机
- 2026-01-30 11:28
- 高真空电阻热蒸发镀膜机（PVD镀膜设备）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物
- 鹏城微纳 高真空电子束蒸发镀膜设备
- 2026-01-30 11:28
- 高真空电子束蒸发镀膜设备（PVD镀膜设备）是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物
- 鹏城微纳 科研型 高真空磁控溅射镀膜机
- 2026-01-30 11:28
- 科研型 高真空磁控溅射镀膜机 Circular Sputter系列是我司科研类及中试类高真空磁控溅射仪，其主要是用圆形磁控溅射靶进行溅射的
- 鹏城微纳 生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机
- 2026-01-30 11:28
- 生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机（PVD-1000B系列）该设备采用磁控溅射、离子辅助、反应溅射的工艺方法，在工件表面制
- 鹏城微纳 生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机
- 2026-01-30 11:28
- 生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机（PVD-1000S系列）该设备广泛应用于铣刀、钻头、轴承、齿轮、镜片等表面的硬质耐
- 生产型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控溅射镀膜机
- 2026-01-30 11:28
- 生产型TGV/TSV/TMV 高真空磁控溅射镀膜机（Sputter-2000W系列）该设备用于玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的镀膜，深径比1